SEM制样_工学_高等教育_教育专区。材料现代测试技术,各种现代材料测试技术及仪器的应用 介绍

　　SEM 样品制备 1. 对试样的要求试样可以是块状或粉末颗粒，在真空中能保持稳定，含有水分 的试样应 先烘干除去水分。表面受到污染的试样，要在不破坏试样表面结 构的前提下 进行适当清洗，然后烘干。新断开的断口或断面，一般不需要 进行处理，以 免破坏断口或 表面的结构状态。有些试样的表面、断口需要 进行适当的侵 蚀，才能暴露某些结构细节，则在侵蚀后应将表面或断口清 洗干净，然后烘干。对磁性试样要预先去磁，以免观察时电子束受到磁场的 影响。试样大小要适合仪器专用样品座的尺寸，不能过大，样品座尺寸各仪 器 不均相同，一般小的样品座为 Φ3~5mm ，大的样品座为 Φ30~50mm ， 以分 别用来放置不同大小的试样，样品的高度也有一定的限制，一般在 5 ~10mm 左右。 2. 块状试样扫描电镜的试样制备是比较简便的。对于块状导电材料，除了大小 要适 合仪器样品座尺寸外，基本上不需要进行什么制备，用导电胶把试样 粘结在 样品座上，即可放在扫描电镜中观察。对于块状的非导电或导电性 较差的材 料，要先进行镀膜处理，在材料表面形成一层导电膜。以避免电 荷积累，影 响图象质量。并可防止试样的热损伤。 3. 粉末试样的制备。越信通www.sh-dayue.com先将导电胶或双面胶纸粘结在样品座上，再均匀地把粉末 样撒在上面，用洗耳球吹去未粘住的粉末，再镀上一层导电膜，即可上电镜 观察。 4. 镀膜镀膜的方法有两种，一是真空镀膜，另一种是离子溅射镀膜。离子溅射 镀膜的原理是：在低气压系统中，气体分子在相隔一定距离的阳极和阴极之 间的强电场作用下电离成正离子和电子，正离子飞向阴极，电子飞向阳极， 二电极间形成辉光放电，在辉光放电过程中，具有一定动量的正离子撞击阴 极，使阴极表面的原子被逐出，称为溅射，如果阴极表面为用来镀膜的材料 （靶材） ，需要镀膜的样品放在作为阳极的样品台上，则被正离子轰击而溅 射出来的靶材原子沉积在试样上，形成一定厚度的镀膜层。 离子溅射时常 用的气体为惰性气体氩， 要求不高时， 也可以用空气， 气压约为 5×10-2 Torr 。 离子溅射镀膜与真空镀膜相比，其主要优点是： 1 ）装置结构简单，使用 （ 方便，溅射一次只需几分钟，而真空镀膜则要半个小时以上。 2 ）消耗贵 （ 金属少，每次仅约几毫克。 3 ）对同一种镀膜材料，离子溅射镀膜质量好， （ 能形成颗粒更细、更致密、更均匀、附着力更强的膜。